Reinigingsapparatuur voor siliciumwafers is essentieel in de halfgeleiderindustrie om de zuiverheid en integriteit van wafers te behouden. Deze machines maken gebruik van een combinatie van chemische, mechanische en ultrazuivere waterprocessen om verontreinigingen, deeltjes en organische resten van het waferoppervlak te verwijderen. De apparatuur bestaat meestal uit ultrasone baden, chemische tanks, centrifuges en schrobmachines, die allemaal ontworpen zijn om een hoge mate van reinheid te bereiken. Precisie is van het grootste belang, omdat zelfs de kleinste onzuiverheden de prestaties van halfgeleiders kunnen beïnvloeden. Schone wafers resulteren in een hogere opbrengst en kwaliteit, waardoor deze reinigingssystemen onmisbaar zijn bij de productie van halfgeleiders.