Los equipos de limpieza de obleas de silicio son esenciales en la industria de semiconductores para mantener la pureza e integridad de las obleas. Estas máquinas utilizan una combinación de procesos químicos, mecánicos y basados en agua ultrapura para eliminar contaminantes, partículas y residuos orgánicos de la superficie de las obleas. El equipo suele incluir baños ultrasónicos, depósitos de productos químicos, secadores de enjuague por centrifugado y depuradores, todos ellos diseñados para lograr un alto nivel de limpieza. La precisión es primordial, ya que incluso las impurezas más pequeñas pueden afectar al rendimiento de los semiconductores. Unas obleas limpias mejoran el rendimiento y la calidad, por lo que estos sistemas de limpieza son indispensables en la fabricación de semiconductores.